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詞條說明
硅片去除光刻膠,一般都是采用等離子處理機的干洗清洗方式,以解決光刻膠問題。半導(dǎo)體等離子清洗機是晶圓加工前的后端封裝工藝,是晶圓扇出、晶圓級封裝、3D封裝、倒裝片和傳統(tǒng)封裝的理想選擇。圓晶封裝前采用等離子體清洗機處理的目的是去除表面層中的無機物,減少氧化層,增加銅表面層的粗糙度,提高產(chǎn)品的可靠性。半導(dǎo)體等離子清洗設(shè)備支持直徑75mm至300mm的圓形或方形晶片、基片的自動處理。另外,可以根據(jù)晶片的厚
等離子清洗機的激活鍵能,交聯(lián)作用:等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂,等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu),大大地激活了表面活性。等離子清洗機實現(xiàn)對材料表面進行激活、蝕刻、除污等工藝處理,以及對材料的摩擦因數(shù)、粘合和親水等各種表面性能進行改良的作用。等離子清洗機Plasma Clean
等離子清洗機增加材料之間的粘結(jié)性許多聚合物薄膜和纖維等高分子材料由于具有較低的表面能,很難被溶劑潤濕,表現(xiàn)出較低的粘接性。而高分子材料經(jīng)plasma等離子清洗機處理后,易在其表面引入級性基團或活性點,提高表面活性和表面能,使非級性表面轉(zhuǎn)變?yōu)榧壭员砻妫鰪娏苏辰Y(jié)材料與粘結(jié)劑之間的范德華力作用,進而達到改善材料粘結(jié)性的目的。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等
等離子清洗機設(shè)備在各個領(lǐng)域的詳細應(yīng)用
等離子清洗機設(shè)備,在各個領(lǐng)域的詳細應(yīng)用 等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等
公司名: 煙臺金鷹科技有限公司
聯(lián)系人: 劉曉玲
電 話: 0535 -8236617
手 機: 13573547231
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地 址: 山東煙臺招遠市山東招遠高新開發(fā)區(qū)招金路518號
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