真空鍍膜設備的環(huán)境要求

時間：2022-04-16作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：316

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• 真空鍍膜設備的環(huán)境要求

  ? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環(huán)境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設備的行業(yè)標準(包括真空鍍膜設備通用技術條件、真空離子鍍膜設備、真空濺射鍍膜設備、真空蒸發(fā)鍍膜設備)都對環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空鍍膜設備對環(huán)境的要求，才能使該設備正常運轉，加上正確的鍍膜工藝，方能生產出合格的鍍膜產品。真空對

• 立式濺射鍍膜設備的優(yōu)勢及應用行業(yè)

  立式濺射鍍膜設備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環(huán)境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產生廢液，減少環(huán)境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現(xiàn)綠色環(huán)保生產。其中之一的汽車行業(yè) 該設備的設計為立式雙門的結構，是一款直流磁

• 磁控濺射鍍膜設備的優(yōu)點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術中，磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天，廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術的優(yōu)點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷??； 2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 真空鍍膜技術及設備

  真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、**的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝潢裝飾，燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領域。磁控濺射鍍膜設備及技術可以再金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應物（氧化物、氮化物、炭化物）、