HVA 真空閥門71000系列, 適用于苛刻的真空環(huán)境, 易于維護

時間：2024-01-11作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：67

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  詞條說明

• HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機設備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣

• HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應商.?在設計真空系統(tǒng)時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16