美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：56

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• 詞條

  詞條說明

• HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進樣室 

• 分子泵組應用于紅外原位分析平臺

  Pfeiffer?分子泵組應用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態(tài)反應過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復雜反應過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴格的高真空和高溫預處理, 可在高真空

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導體工廠在生產線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規(guī)格:??閥門材質:?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋

• KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠紫外產品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現(xiàn)了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達99.9%的細