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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
因產(chǎn)品配置不同,價(jià)格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應(yīng)用上海伯東某生產(chǎn)原生多晶矽料生產(chǎn)設(shè)備, 矽片加工設(shè)備, 晶體矽電池生產(chǎn)設(shè)備企業(yè), 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機(jī)臺(tái)的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內(nèi)的矽片生產(chǎn)線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般
Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺(tái)真空探針臺(tái)一般用于復(fù)雜, 高速精密器件進(jìn)行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產(chǎn)品的質(zhì)量和性并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本. 探針臺(tái)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè), 光電行業(yè), 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環(huán)境?1. 真空探針臺(tái)通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由
分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時(shí)間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達(dá)到其使用要求.渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機(jī): 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
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網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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