鵬城半導體邀您參加*四屆**半導體產業(yè)（重慶）博覽會

時間：2022-03-16

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

詞條
詞條說明
重磅-鵬城半導體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權登記證書！
近日，經*人民共和國國家**審核，根據《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規(guī)定，“鵬城半導體技術（深圳）有限公司-全資子公司鵬城微納技術（沈陽）有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權登記證書》，分別是：《多功能磁控濺射系統軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統軟件V1.0》。從頒證之日起，該3
鵬城半導體|HFCVD熱絲化學氣相沉積設備高性價比生產廠家臺風快訊
金剛石是一種典型的多功能限材料，在電學、光學、熱學、力學聲學和電化學方面具有優(yōu)異性能，在眾多GAO*XIN*技術領域具有廣闊的應用前景。20世紀80年代之后，化學氣相沉積（CVD）技術制備金剛石涂層促進了其廣泛的應用，引發(fā)了席卷的“金剛石熱”。90年代后，隨著金剛石涂層工業(yè)化制備技術的出現，金剛石涂層產業(yè)開萌生。金剛石涂層工具、金剛石熱沉、金剛石光學窗口、金剛石膜基探測器及傳感器和金剛石電等一系列
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）?？捎糜诳茖W研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片?；胖梅绞剑号渲萌N基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角?；螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2～4
半導體制造及先進封裝持續(xù)升溫
得益于政策的有力支持、行業(yè)周期性的變化、創(chuàng)新驅動的增長以及國產替代的加速推進，從IC設計到晶圓制造、封裝測試，再到設備材料等多個細分領域，國產化率實現了顯著提升，標志著我國半導體產業(yè)正朝著自主可控的方向穩(wěn)步邁進。半導體材料國產化率仍在進一步提升2025年，**半導體產能的年增長率將達到6.6%，每月3360萬片晶圓，而主流制程產能將實現6%的增長，達到每月1500萬片。相較于**制程，成熟制程的工