模塊式檢漏儀應用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)

時間：2023-04-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵
氦質譜檢漏儀高溫真空燒結爐氣密性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高溫真空燒結爐氣密性泄露檢測某客戶生產(chǎn)汽車過濾網(wǎng), 因高溫真空燒結爐氣密性不佳, 導致生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料出現(xiàn)氧化質量問題, 經(jīng)過上海伯東推薦, 選用氦質譜檢漏儀?ASM 340W 對真空燒結爐進行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經(jīng)過檢漏后的真空爐, 生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料無氧化, 達到客戶工藝要求.高溫真空燒結爐氦質譜檢漏法:金屬 (粉末)
分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM
上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用
半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩(wěn)定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),?用來改變氣流方向,?調節(jié)氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb