什么是靶材？

時(shí)間：2022-01-20作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：308

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 【高純金靶材】濺射靶材的主要應(yīng)用

  濺射靶材的主要應(yīng)用濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。分類 根據(jù)形狀可分為長(zhǎng)靶，方靶，圓靶，異型靶 根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)

• 淺談半導(dǎo)體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

• 鈀靶材的制作方法

  目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法：將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金溶液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經(jīng)機(jī)械加工制成靶材，鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低，密度高，可大型化;缺點(diǎn)是對(duì)熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法：將一定成分

• 靶材用在什么設(shè)備

  做金屬材料的靶材，必須真空熔化爐，或是真空燒結(jié)爐或氡氣氛圍燒結(jié)爐開展制坯；隨后有可能必須鍛錘和軋機(jī)開展工作壓力成型生產(chǎn)加工；然后必須真空退火爐開展靶材熱處理工藝；隨后必須超聲波無(wú)損檢測(cè)設(shè)備開展檢驗(yàn)；必須電鏡、ICP、激光粒度儀、費(fèi)氏粒度儀、金相顯微鏡以及制樣機(jī)器設(shè)備等開展有機(jī)化學(xué)有效成分剖析、金相檢驗(yàn)、粉末狀粒度分布乃至晶體缺陷剖析。隨后還必須各種車銑數(shù)控磨床開展機(jī)械加工；最終還必須關(guān)聯(lián)機(jī)器設(shè)備和