詞條
詞條說(shuō)明
高純鉻靶的目標(biāo)晶粒尺寸和分布:通常,目標(biāo)材料具有多晶結(jié)構(gòu),并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數(shù)量級(jí)上。 對(duì)于相同組成的靶材,細(xì)顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過(guò)真空熔融法制造的靶材可以確保塊內(nèi)沒(méi)有孔,但是通過(guò)粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數(shù)量的孔。 孔的存在會(huì)在濺射過(guò)程中引起異常放電,從而產(chǎn)生雜質(zhì)顆粒。 此外,由于其密度低,在
碲化鎘靶材:光伏產(chǎn)業(yè)的核心材料密碼 在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域,碲化鎘靶材憑借獨(dú)特的光電轉(zhuǎn)換性能成為薄膜技術(shù)的核心原料。這種由碲和鎘元素組成的化合物靶材,通過(guò)磁控濺射工藝在玻璃基板上形成僅有幾微米厚的吸收層,卻能實(shí)現(xiàn)高達(dá)22%的實(shí)驗(yàn)室光電轉(zhuǎn)換效率。 碲化鎘薄膜的突出優(yōu)勢(shì)在于其寬光譜響應(yīng)特性。材料1.45電子伏特的直接帶隙結(jié)構(gòu)與太陽(yáng)光譜高度匹配,對(duì)弱光環(huán)境表現(xiàn)出極強(qiáng)的適應(yīng)性,陰雨天仍能保持穩(wěn)定發(fā)電。相比晶硅電
陽(yáng)江金靶材作為一家專(zhuān)注于生產(chǎn)高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的科技型企業(yè),陽(yáng)江金靶材以其強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量贏得了市場(chǎng)的認(rèn)可和贊譽(yù)。其中,金靶材作為其主要產(chǎn)品之一,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域和顯著的性能優(yōu)勢(shì),受到了業(yè)界和客戶(hù)的高度關(guān)注。金靶材,又稱(chēng)金屬靶材,是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。在光學(xué)涂層領(lǐng)域,金靶材因其優(yōu)異的光學(xué)特性而備受青睞。其高反射率、低吸收率和良好的耐腐蝕性能,使其成為制備反射鏡、濾
貴金屬合金靶材:高科技產(chǎn)業(yè)的"隱形冠軍"在半導(dǎo)體和顯示面板生產(chǎn)線(xiàn)上,一種特殊材料正在默默發(fā)揮著關(guān)鍵作用。貴金屬合金靶材以其獨(dú)特的性能,成為現(xiàn)代電子制造業(yè)不可或缺的核心材料。這種由金、銀、鉑等貴金屬與其他金屬元素組成的合金材料,通過(guò)磁控濺射工藝在基板上沉積出納米級(jí)薄膜,為電子器件提供優(yōu)良的導(dǎo)電性和穩(wěn)定性。純度是衡量貴金屬合金靶材品質(zhì)的首要指標(biāo)。99.99%以上的超高純度要求,確保了濺射過(guò)程中不會(huì)引
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話(huà): 0769-88039551
手 機(jī): 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
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