電鍍和真空鍍的區(qū)別

時(shí)間：2022-03-01作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：451

廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司專注于真空鍍膜,真空鍍膜設(shè)備,真空鍍膜生產(chǎn)商等

• 詞條

  詞條說明

• 真空鍍膜設(shè)備由哪些部分構(gòu)成

  真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的設(shè)備，目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍膜行業(yè)。但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構(gòu)成部分，接下來讓我們一起來認(rèn)識(shí)一下真空鍍膜機(jī)的主要構(gòu)成部分。其中有：真空室、真空獲得部分、真空測(cè)量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測(cè)溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷系統(tǒng)。1、真空室涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧

• 卷繞真空鍍膜機(jī)的簡(jiǎn)介與應(yīng)用

  ? ? ??卷繞式真空鍍膜設(shè)備,包括設(shè)置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設(shè)置有與驅(qū)動(dòng)電機(jī)輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動(dòng)的送料輥輪對(duì),送料輥輪對(duì)與鍍膜輥之間設(shè)置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對(duì)與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪；收卷裝置包括一主動(dòng)的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設(shè)置有送料輥輪對(duì),該送料輥輪對(duì)與收卷輥之

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑，否則該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo)，所以化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其

• PVD涂層對(duì)工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層，工件需經(jīng)研磨或拋光，并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。 五、在EDM（