影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

時間：2022-07-20作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：126

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• 電鍍和真空鍍的區(qū)別

  ????電鍍和真空鍍的區(qū)別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經電極反應還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉積

• 磁控濺射鍍膜設備

  ? ? ? ? 該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調整，膜層均勻性優(yōu)越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度，滿足了

• 真空鍍膜機哪個好

  真空鍍膜機的種類繁多，接下來我們來拿磁控濺射鍍膜機來舉一下例子：該設備集控磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性，沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調整；膜層均勻性優(yōu)越；配備不同的靶材，可鍍制出心梗較好的復合膜層。設備所鍍的制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產品的耐鹽霧性，耐磨性及產品表面

• 真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積，包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經有了高質量的光學薄膜沉積案例，開發(fā)了多種光學膜層材料。這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟