詞條
詞條說明
等離子體化學氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積),另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積),它們都是在20世紀70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內(nèi)應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對基材沒什么影響,避免了
真空鍍膜機應用領(lǐng)域很廣泛,各行各業(yè)都有用到,光學領(lǐng)域,汽車裝飾零配件,電子,陶瓷等等,用在不同的行業(yè),真空鍍膜機名字不一樣,下面詳細和大家劃分一下類目,希望能幫助到大家:1、建筑五金:衛(wèi)浴五金(如水龍頭).門鎖.門拉手.衛(wèi)浴、五金合葉、家具,表殼.表帶的鍍膜、水晶制品等,鍍膜是為了提高表面的顏色,我們統(tǒng)稱為裝飾真空鍍膜機。2、用在電子,科技領(lǐng)域,如汽車激光雷達,抬頭顯示器HUD,電子后視鏡,光學鏡
一、PVD真空鍍膜設(shè)備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年,**PVD真空鍍膜設(shè)備行業(yè)的總規(guī)模約為22億美元,而且預計到2024年,這一數(shù)字將會翻倍,達到47億美元。PVD真空鍍膜技術(shù)由非金屬物質(zhì)以真空溫度和帶電離子碰撞技術(shù),形成厚膜,具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優(yōu)點。PVD真空鍍膜設(shè)備可廣泛應用于電子、醫(yī)療、汽車、航空航天、航空航空電子等領(lǐng)域,以及金屬表面處理、無損
化學氣相沉積設(shè)備(CVD)-小型管式LPCVD設(shè)備
LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點1、小型化,方便實驗室操作和使用,大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片?;胖梅绞剑号渲萌N基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角?;螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2~4
公司名: 鵬城半導體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區(qū)留仙大道3370號南山智園崇文園區(qū)3號樓304
郵 編:
網(wǎng) 址: pcs2021.b2b168.com
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